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喜訊頤光科技亮相第四屆軟件創新發展大會EometricsPro橢偏儀軟件V3.0榮獲“2025年湖北省首版次軟件產品”獎項6月11日，以“智啟軟件新時代共創AI新生態”為主題的第四屆軟件創新發展大會在武漢隆重舉行。會上，武漢頤光科技有限公司憑借自主研發的EometricsPro橢...
反射透射測量儀是一種用于準確測定材料光學特性的精密儀器，主要用于測量樣品對光的反射率、透射率以及由此推算出的吸收率。它被廣泛應用于光學材料研發、薄膜鍍膜、半導體、光伏、建筑玻璃及各類新型材料的性能表征與質量控制。反射透射測量儀是基于光學的反射、透射現象：向待測樣品發射特定波長光線，分別測量被樣品反射的光強和透過樣品的光強，與入射光強對比后計算得到樣品的反射率和透射率。操作要點：定期校準與基線校正：測量前必須使用標準參考白板和空氣/空白基片對儀器進行校準，以消除光源波動和環境雜...
查看詳情在半導體制造和精密加工領域，晶圓形貌量測是確保工藝良率、設備可靠性和器件性能的關鍵質量管控環節，可避免工藝過程中出現光刻失焦、設備碎片、鍵合空洞、刻蝕不均勻等一系列問題。TTV與翹曲度的測量是貫穿半導體前道工藝的核心幾何量計量，其本質在于通過對硅片宏觀三維形貌的嚴格管控，消除微觀電路制造過程中的物理不確定性，從而保障光刻對準、工藝均勻性、設備安全及最終產品的電性能與可靠性。頤光科技的MSM系列高精度晶圓形貌測量設備，可滿足晶圓形貌的高精度量測。MSM系列產品n技術原理n應用場...
查看詳情中科大、河南大學與多倫多大學聯合團隊在《NaturePhotonics》發表研究，利用混合相CdZnSeS量子點中的偶極-偶極相互作用使量子點有效排列，增強了發光二極管中的光子外耦合。通過該技術突破平面QD-LED外量子效率30%的理論極限，實現35.6%的峰值外量子效率。DOI:10.1038/s41566-023-01344-4一、行業核心痛點長期以來，QD-LED的外量子效率（EQE）一直受限于光子出射耦合效率不足，通常只有大約30%的光子能逸出器件。傳統的各向異性納米...
查看詳情膜厚測試儀是用于精確測量材料表面涂層、鍍層或薄膜厚度的精密儀器，覆蓋從納米到毫米級測量，廣泛用于半導體、汽車、電子、光學等行業。膜厚測試儀根據測量原理的不同，主要分為以下幾種類型：磁性法：適用于測量磁性基底上的非磁性涂層的厚度。通過測量磁場強度的變化來確定涂層的厚度。渦流法：適用于測量非磁性基底上的涂層厚度。通過在探頭中產生高頻交流電，產生渦流，渦流的強度和相位變化與涂層的厚度有關，從而可以測量涂層的厚度。超聲波法：通過發射和接收超聲波脈沖來測量涂層的厚度。超聲波在不同材料中...
查看詳情光譜橢偏儀是基于橢圓偏振測量原理的高精度光學儀器，主要用于表征薄膜和材料的光學特性與微觀結構。測量流程：設定入射角（如70°）和波長范圍；偏振光照射樣品，反射光進入探測系統；通過旋轉起偏器/檢偏器或使用相位調制技術，獲取Ψ(λ)和Δ(λ)光譜；建立光學模型；利用最小二乘法擬合實驗數據，優化模型參數；輸出結果：厚度、光學常數、界面粗糙度、成分等。局限性與注意事項：屬于間接測量，嚴重依賴模型與初始參數；光斑通常幾十到幾百微米，空間分辨率低于AFM/SEM；強吸收基底上的超薄透明膜...
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